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模具的拋光處理,這些方法都要了解下

日期: 2020-09-23 作者:鋁合金銷售部 瀏覽: 108次

  模具的拋光處理,這些辦法都要了解下

  拋光不只增加工件的漂亮,而且能夠改善資料外表的耐腐蝕性、耐磨性,還能夠使模具擁有其它長處,如使塑料制品易于脫模,削減生產(chǎn)注塑周期等。因而拋光在塑料模具制造進程中是很重要的一道工序。

  現(xiàn)在常用的拋光辦法有以下幾種:

  1.1 機械拋光

  機械拋光是*切削、資料外表塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光辦法,一般運用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手藝操作為主,特別零件如反轉體外表,可運用轉臺等輔助工具,外表質(zhì)量 要求高的可采用超精研拋的辦法。

  超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工外表上,作高速旋轉運動。運用該技能能夠到達Ra0.008μm的外表粗糙度,是各種拋光辦法中最高的。光學鏡片模具常采用這種辦法。

  1.2 化學拋光

  化學拋光是讓資料在化學介質(zhì)中外表微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,然后得到平滑面。這種辦法的首要長處是不需雜亂設備,能夠拋光形狀雜亂的工件,能夠同時拋光很多工件,效率高?;瘜W拋光的核心問題是拋光液的配制?;瘜W拋光得到的外表粗糙度一般為數(shù)10μm。

  1.3 電解拋光

  電解拋光基本原理與化學拋光相同,即*挑選性的溶解資料外表微小凸出部分,使外表潤滑。與化學拋光比較,能夠消除陰極反應的影響,效果較好。電化學拋光進程分為兩步:

  (1)宏觀整平 溶解產(chǎn)品向電解液中擴散,資料外表幾許粗糙下降,Ra>1μm。

  (2)微光平坦 陽極極化,外表光亮度提高,Ra<1μm。

  1.4 超聲波拋光

  將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依*超聲波的振蕩效果,使磨料在工件外表磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝制造和裝置較困難。超聲波加工能夠與化學或電化學辦法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動拌和溶液,使工件外表溶解產(chǎn)品脫離,外表附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化效果還能夠按捺腐蝕進程,利于外表光亮化

  1.5 流體拋光

  流體拋光是依*高速活動的液體及其帶著的磨粒沖刷工件外表到達拋光的目的。常用辦法有:磨料噴發(fā)加工、液體噴發(fā)加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使帶著磨粒的液體介質(zhì)高速往復流過工件外表。介質(zhì)首要采用在較低壓力下流過性好的特別化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

  1.6 磁研磨拋光

  磁研磨拋光是運用磁性磨料在磁場效果下構成磨料刷,對工件磨削加工。這種辦法加工效率高,質(zhì)量好,加工條件簡單操控,作業(yè)條件好。采用適宜的磨料,外表粗糙度能夠到達Ra0.1μm。

  在塑料模具加工中所說的拋光與其他職業(yè)中所要求的外表拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光應該稱為鏡面加工。它不只對拋光自身有很高的要求而且對外表平坦度、潤滑度以及幾許精確度也有很高的規(guī)范。外表拋光一般只要求取得光亮的外表即可。

  鏡面加工的規(guī)范分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,因為電解拋光、流體拋光等辦法很難精確操控零件的幾許精確度,而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等辦法的外表質(zhì)量又達不到要求,所以精細模具的鏡面加工還是以機械拋光為主。

  機械拋光基本程序

  要想取得高質(zhì)量的拋光效果,最重要的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的挑選取決于前期加工后的外表狀況,如機械加工、電火花加工,磨加工等等。機械拋光的一般進程如下:

  1、粗拋

  經(jīng)銑、電火花、磨等工藝后的外表能夠挑選轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉外表拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的辦法有運用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然后是手藝油石研磨,條狀油石加火油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的運用次序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具制造商為了節(jié)省時間而挑選從#400開始。

  2、半精拋

  半精拋首要運用砂紙和火油。砂紙的號數(shù)依次為:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙只用適于淬硬的模具鋼(52HRC以上),而不適用于預硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件外表燒傷。

  3、精拋

  精拋首要運用鉆石研磨膏。若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進行研磨的話,則一般的研磨次序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發(fā)狀磨痕。接著用粘氈和鉆石研磨膏進行拋光,次序為1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。

  精度要求在1μm以上(包含1μm)的拋光工藝在模具加工車間中一個清潔的拋光室內(nèi)即可進行。若進行更加精細的拋光則必需一個絕對潔凈的空間。塵埃、煙霧,頭皮屑和口水沫都有可能作廢數(shù)個小時作業(yè)后得到的高精細拋光外表。